|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИСТИНА ИНХС РАН |
||
SPIE 22nd Annual International Symposium on Microlithographyсборник
- Год издания: 1997
- Том: 3050
- Место издания: Santa Clara, CA
- Добавил в систему: Голубцов Петр Викторович
Статьи, опубликованные в сборнике
-
- 1997 Importance of wafer flatness for CMP and lithography
- Golubtsov P.V., Zhang Y., Wagner L.
- в сборнике SPIE 22nd Annual International Symposium on Microlithography, место издания Santa Clara, CA, том 3050, с. 266-269