ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
|
ИСТИНА ИНХС РАН |
||
Показано, что в Ag/Pd резистивных пленках, изготовленных по толстопленочной технологии, при наклонном падении лазерного излучения наносекундной длительности в плоскости перпендикулярной плоскости падения в диапазоне длин волн от 1350 до 2100 нм наблюдается фототок фотонного увлечения, зависящий от эллиптичности и знака циркулярной поляризации. Наблюдаемый фототок состоит из циркулярного и линейного вкладов, соответственно зависящих и не зависящих от знака циркулярной поляризации. В указанном диапазоне длин волн амплитуда циркулярного вклада во много раз превышает амплитуду линейного вклада.