ИСТИНА

Анизотропией смачивания монокристаллической подложки принято называть влияние ориентации плоскости подложки (относительно кристаллографических осей монокристалла) на равновесный краевой угол смачивания. Это явление многократно наблюдалось на различных системах твердое / жидкость, однако систематические представления о влиянии ориентации подложки на смачивание в бинарных системах к настоящему моменту не сложились. Это обусловлено, в частности, рядом экспериментальных сложностей, возникающих при изучении данного явления: далеко не всегда удается получить равновесный «Юнговский» угол смачивания из-за неконтролируемого рельефа подложки, протекающих параллельно с растеканием процессов взаимного растворения, неконтролируемого влияния компонентов газовой фазы и т.д. Целью представленной работы было исследовать анизотропию смачивания на системе насыщенный водный раствор хлористого натрия / монокристалл NaCl и оценить поверхностные энергии на границах раздела твердое/жидкость и твердое/газ. Отметим, что по данным [1] именно на системе NaCl/H20 явление анизотропии смачивания наблюдалось впервые более 110 лет назад. Исследованию анизотропии смачивания в данной системе был посвящен ряд более поздних работ [2], однако получить количественные данные по влиянию ориентации на поверхностную энергию монокристаллического NaCl не удалось. Эксперименты проводили на поверхностях 100, 111 и 110 монокристаллического NaCl. Поверхности полировали механически до корундовой суспензии 0.6 мкм. Небольшую каплю насыщенного водного раствора NaCl наносили на поверхность монокристалла при помощи шприца, краевой угол смачивания регистрировали при помощи горизонтального микроскопа, оборудованного цифровой видеокамерой, и измеряли методом касательных. На основании полученных данных сделаны оценки термодинамических характеристик границ раздела NaCl / насыщенный водный раствор и NaCl / воздух в зависимости от ориентации поверхности монокристалла. 1. Ю.З. Повстенко. Математические методы и физико-механические поля, 31, с. 8-16, 1990 2. W. Engelhardt. Z. Elektrochem., 65, No.9, 793-801, 1961.