Выберите категорию обращения:
Общие вопросы
Отчеты
Рейтинги
Мониторинговый отчёт
Диссертационные советы
Конкурсы
Ввод данных
Структура организаций
Аспирантура
Научное оборудование
Импорт педагогической нагрузки
Журналы и импакт-факторы
Тема обращения:
Описание проблемы:
Введите почтовый адрес:
ИСТИНА
Войти в систему
Регистрация
ИСТИНА ИНХС РАН
Главная
Поиск
Статистика
О проекте
Помощь
Atomic layer deposition of TiO2 and Al2O3 on nanographite films produced by PECVD: structure and field emission properties
доклад на конференции
Авторы:
Ismagilov R.R.
,
Obraztsov A.N.
,
Kleshch V.I.
Международная Конференция :
20th biennial European conference on chemical vapor deposition “EuroCVD20”
Даты проведения конференции:
13-17 июля 2015
Дата доклада:
15 июля 2015
Тип доклада:
Стендовый
Докладчик:
не указан
не указан
Ismagilov R.R.
Obraztsov A.N.
Kleshch V.I.
Место проведения:
Sempach, Switzerland
Добавил в систему:
Исмагилов Ринат Рамилович