ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
|
ИСТИНА ИНХС РАН |
||
Хорошо известны источники плазмы, основанные на емкостном и индуктивном ВЧ разряде. Для индуктивного ВЧ разряда (ИВЧР) низкого давления характерны высокие плотности электронов при относительно низких эффективных температурах электронов. Для емкостного разряда, напротив, характерны относительно низкие плотности плазмы и наличие быстрых электронов. В работе [1] сделана попытка организовать разряд с гибко управляемыми параметрами, соединяющий достоинства индуктивного и емкостного ВЧ разрядов. Для этой цели был выбран индуктивный ВЧ разряд с усиленной емкостной компонентой, а именно гибридный ВЧ разряд (ГВЧР), где естественным образом присутствуют вихревые и потенциальные ВЧ поля. Данная работа посвящена сравнительному исследованию параметров индуктивного и в гибридного ВЧ разрядов низкого давления.