ИСТИНА

В работе исследуется влияние подложки на структуру и электрофизические свойства тонких углеродных пленок, конденсируемых в условиях стимуляции ионами низких энергий.Пленки углерода получаются вакуумной конденсацией потока углерода в условиях, когда подложка и растущая на ней пленка облучаются ионами инертного газа. Температура подложки не превышала 600 С. Толщина исследуемых углеродных пленок составляет от 100 до 2000 Å. В качестве материала подложки используются металлы Al, Cu, Mo, Re, Ta и W. Фазовый состав углеродных пленок и тип преобладающей химической связи в них исследуются методом рамановской спектроскопии