|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИСТИНА ИНХС РАН |
||
Correlation between plasma glow intensity distribution and sputtering profile in dc magnetron dischargeдоклад на конференции
- Авторы: Pal A.F., Serov A.O., Ryabinkin A.N.
- Международная Конференция : XXXIII International Conference on Equations of State for Matter
- Даты проведения конференции: 28 февраля - 6 марта 2018
- Дата доклада: 3 марта 2018
- Тип доклада: Стендовый
- Докладчик: не указан
- Место проведения: Elbrus, Kabardino-Balkaria, Russia
-
Аннотация доклада:
The correlation between the plasma glow intensity distribution and the target sputtering profile in an axially symmetric unbalanced dc magnetron discharge with copper cathode in argon is studied. At high pressures the argon atom and ion emission intensities are in good agreement with a sputtering profile. In case of low pressures, a satisfactory agreement is only for the ion emission. The best estimates of the sputtering profile can be obtained from the argon ion emission distribution at not too low pressures.
- Добавил в систему: Серов Александр Олегович