ИСТИНА

Реализованный двухстадийный процесс позволяет получать тонкие (толщиной 120 нм) плёнки VO2 c высокой амплитудой перехода металл- диэлектрик. Хорошая адгезия плёнок позволяет формировать на ней структуры микрометровых размеров. Сохраняющаяся после процесса фотолитографии высокая амплитуда перехода, который может быть инициирован как приложением Ucr, так и нагревом, позволяет использовать такие структуры в различных микроэлектронных приложениях вплоть до логических элементов. Измерения, проведенные в СВЧ области, показывают возможность применения плёнок в качестве управляемых СВЧ-экранов или полосковых линий. Во всей исследованной полосе частот (0 – 20ГГц) спектр коэффициента S21 не имеет особенностей.