Выберите категорию обращения:
Общие вопросы
Отчеты
Рейтинги
Мониторинговый отчёт
Диссертационные советы
Конкурсы
Ввод данных
Структура организаций
Аспирантура
Научное оборудование
Импорт педагогической нагрузки
Журналы и импакт-факторы
Тема обращения:
Описание проблемы:
Введите почтовый адрес:
ИСТИНА
Войти в систему
Регистрация
ИСТИНА ИНХС РАН
Главная
Поиск
Статистика
О проекте
Помощь
Pore sealing in low-k dielectrics by low-energy ions
доклад на конференции
Авторы:
Voronina E.N.
,
Lopaev D.V.
,
Sycheva A.A.
,
Rakhimova T.V.
,
Mankelevich Yu A.
Международная Конференция (Семинар (workshop)) :
Plasma Etch and Strip for Microtechnology workshop (PESM 2019)
Даты проведения конференции:
20-21 мая 2019
Дата доклада:
20 мая 2019
Тип доклада:
Устный
Докладчик:
Voronina E.N.
не указан
Voronina E.N.
Lopaev D.V.
Sycheva A.A.
Rakhimova T.V.
Mankelevich Yu A.
Место проведения:
Гренобль, France
Добавил в систему:
Воронина Екатерина Николаевна