|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИСТИНА ИНХС РАН |
||
Understanding the interaction mechanisms between amorphous carbon sacrificial patterning material and H2 plasma to enable area-selective ALD processesдоклад на конференции
- Авторы: Zyulkov I., Voronina E.N., Chan BT, Armini S., Rakhimova T.V., De Gendt S., Mankelevich Yu A.
- Международная Конференция (Семинар (workshop)) : Plasma Etch and Strip for Microtechnology workshop (PESM 2019)
- Даты проведения конференции: 20-21 мая 2019
- Дата доклада: 20 мая 2019
- Тип доклада: Устный
- Докладчик: Voronina E.N.
- Место проведения: Гренобль, France
- Добавил в систему: Воронина Екатерина Николаевна