ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
|
ИСТИНА ИНХС РАН |
||
Было выполнено исследование цилиндрического индуктивного ВЧ источника плазмы во внешнем магнитном поле. Показано, что при низких магнитных полях можно достичь максимума вложения мощности в плазму. Появление такого максимума связано с генерацией и поглощением связных друг с другом волн. На основе этих данных была собрана полупромышленная установка для магнетронного напыления и ионным стимулированием. ВЧ индуктивный разряд служит для создания направленного потока ионов. Использование низких магнитных полей и мощностей ВЧ генератора позволяет считать подобные системы перспективными для нужд полупроводниковой промышленности.