ИСТИНА

В настоящее время метод пассивирования поверхности является одним из главных способов подготовки поверхности для использования суперразрешающих флуоресцентных методов. Данный класс методик позволяет изучать структуру и ее эволюцию в различных условиях для биологических объектов (например, белков [Rusmini, Zhong, Feijen, 2007] ), молекулярных кластеров (например, липосом [Losey и др., 2009]) и др. Для этого необходима фиксация объектов изучения вблизи поверхности с помощью специальных анкеров. Одной из проблем такого подхода является наличие неспецифичного связывания и взаимодействие объектов с подложкой, поэтому подложка предварительно должна быть покрыта гидрофильным слоем из полимера (толщина порядка 50-200 нм, [Gidi и др., 2018]) или поверхностно-активным веществом (толщина порядка 2-5 нм, [Hua и др., 2014]). В данной работе рассмотрена системы, в которой на поверхность из раствора осаждается не линейный полимер (ПЭГ или др.), а плотная полимерная сетка на основе полиакриламида (ПАМ). Предполагается, что вблизи поверхности происходит ковалентное прикрепление и полимеризация смеси модифицированных и обыкновенных мономеров ПАМ. В итоге, в системе образуется слой сетчатого полимера, с убывающей плотностью при удалении от поверхности, т.е. мы имеем дело с неоднородным слоем, представляющим собой микрокомпартменты для целевых объектов в его верхней части. Подбирая определенные параметры при мицеллярной сополимеризации (концентрация компонентов, количество ПАВ и др.), мы можем контролировать физическую структуру данного слоя. Методы рентгеновской и нейтронной рефлектометрии позволяют определять распределение плотности слоя по глубине вблизи границы раздела. Достижение хорошего пространственного разрешения требует достаточного контраста между компонентами системы. Так, в случае нейтронного излучения, возможности расширяются при проведении эксперимента с использованием растворов на основе D2O. Целью данной работы является подбор оптимальных параметров синтеза для получения систем, дающих качественные рефлектометрические кривые. Проведен анализ модельных зависимостей в случае высушенной подложки при использовании рентгеновского излучения. Даны модельные зависимости для случая нейтронной рефлектометрии с использованием разной степени дейтерирования раствора. Оценено влияние на кривые отражения набухания полимерного слоя.