ИСТИНА

Микроструктура поверхности значительно влияет на ее физико-химические свойства, поэтому установление закономерностей формирования микрорельефа полимерных пленок при различных внешних воздействиях является важной задачей. Особого внимания заслуживают холестерические пленки жидкокристаллических (ЖК) полимеров и олигомеров, рельефом поверхности которых можно легко управлять с помощью облучения светом или выбора режима нагрева, пока пленки находятся в ЖК состоянии. Важно отметить, что заданная микроструктура пленок сохраняется при их охлаждении ниже температуры стеклования. В работе исследовали холестерические пленки на основе циклосилоксановых олигомеров с разной длиной волны селективного отражения света λmax ≈ 515 нм (SilGreen) и λmax ≈ 650 нм (SilRed). Для контроля шага холестерической спирали с помощью облучения светом в циклосилоксановую матрицу вводили фотохромную хиральную добавку на основе изосорбида (Sorb). Изучение динамики изменения микроструктуры поверхности пленок проводили с помощью атомно-силового микроскопа «ФемтоСкан» в полуконтактном режиме при нагревании. Использовали кантилеверы с высокой резонансной частотой (около 325 КГц). При данной частоте колебаний зонда поверхность пленок вязкого ЖК полимера проявляла упругие свойства, что позволило получить топографические изображения высокого качества. Было найдено, что поверхность пленок состоит из конфокальных доменов со спиральным рельефом. Показано, что высотой доменов можно эффективно управлять в пределах от 5 нм до 30 нм, изменяя режим нагрева и охлаждения пленок. Выявлены особенности формирования микрорельефа поверхности при изменении шага холестерической спирали, вызванном облучением УФ светом, которые заключаются в уменьшении периода спирального рельефа с 550 нм до 350 нм и увеличении площади дефектных областей между доменами. Исследование выполнено при финансовой поддержке РНФ в рамках научного проекта №14-13-00379 (О.В. Синицына, А.Ю. Бобровский, В.П. Шибаев).