|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИСТИНА ИНХС РАН |
||
Influence of the intensive etching processes on structure and properties of CNx films.доклад на конференции
- Авторы: Shalaev R., Varyukhin V., Ulyanov A., Yakovec A., Linnik A., Prudnikov A.
- Международная Конференция (Симпозиум) : Second international symposium “Bulk nanostructured materials: from fundamentals to innovations”
- Даты проведения конференции: 22-26 сентября 2009
- Дата доклада: 23 сентября 2009
- Тип доклада: Стендовый
- Докладчик: не указан
- Место проведения: Уфа, Russia
- Добавил в систему: Ульянов Александр Николаевич