ИСТИНА

В настоящей работе предложен метод получения тонких германиевых слоев на кремниевой подлодке термическим испарением в вакууме. Отличительной особенностью метода является предельно малое расстоянием между источником и подложкой, а также использование испарения из совокупности геометрически упорядоченных в плоскости жидких локальных источников осаждаемого вещества. Указанные особенности обеспечивают ряд важных выгодных преимуществ предложенного метода, в том числе возможность получения однородных совершенных слоев и структур на положках большой площади. Теоретически и экспериментально, показано, что толщина слоев, осаждаемых из системы локальных испарителей не одинакова, она модулирована с шагом, определяемым расположением испарителей на пластине-источнике. Эта неоднородность практически устраняется, если расстоянием между источником и подложкой l превышает некоторое критическое значение lкр т.е. выполняется условие l > lкр . Значение lкр определяется допуском по уровню неоднородности толщины напыляемого слоя, а также зависит от радиуса локальных испарителей r и расстояния между ними h .