|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИСТИНА ИНХС РАН |
||
Стабильность изображения прямоугольных фазовых масок в оптической литографиидоклад на конференции
- Авторы: Рыжикова Ю.В., Белокопытов Г.В.
- Международная Конференция : IX Международная конференция «Прикладная оптика-2010»
- Даты проведения конференции: 2010
- Дата доклада: 20 октября 2010
- Тип доклада: Устный
- Докладчик: Рыжикова Ю.В.
- Место проведения: Санкт-Петербург, Russia
-
Аннотация доклада:
Методом численного моделирования проведено исследование стабильности оптических изображений фазовых и фазово-растровых масок, составленных из прямоугольных областей с разными фазами в зависимости от величины числовой апертуры и параметра когерентности. Приведены аналитические соотношения для оценки сдвига центров квадратных отверстий фазово-растровой маски.
- Добавил в систему: Рыжикова Юлия Владимировна