![]() |
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИСТИНА ИНХС РАН |
||
Посредством катафорезного осаждения (КФО), заключающегося в пропускании постоянного электрического тока через водную эмульсию, содержащую органосилан и ингибитор коррозии, в ячейке для КФО происходит осаждение пленки на меди; затем пленка на Cu отверждается с помощью сушки при Т=150 °С. Through cataphoretic deposition (CPD), which consists in running a direct electric current through an aqueous emulsion containing organosilane and corrosion inhibitor, the film on Cu is deposited in the CPD cell; then the film on Cu is cured by drying at T=150 °C.