|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИСТИНА ИНХС РАН |
||
Microwave plasma-activated CVD reactors: power balance and plasma-chemical mechanisms in H/C/Ar(He) mixtures.доклад на конференции
- Автор: Манкелевич Ю.А.
- Международная Конференция (Семинар (workshop)) : 9th International Workshop “Strong Microwaves and Terahertz Waves: Sources and Applications”, Nizhny Novgorod – Perm – Nizhny Novgorod, Russia, July 24 – 30, 2014
- Даты проведения конференции: 24-30 июля 2014
- Дата доклада: 25 июля 2014
- Тип доклада: не указан
- Докладчик: Манкелевич Ю.А.
- Место проведения: Нижний Новгород, Russia
-
Аннотация доклада:
A comprehensive study of microwave (MW) activated CH4/H2/Ar(He) plasmas used for diamond chemical vapor deposition is reported, focusing on plasma-chemical mechanisms, power balance and effects of wide range variations of noble gas fractions in H/C/Ar (or He) mixtures. The experimental data of Bristol University (BU) (OES, CRDS, calorimetric data from water cooling contours) are complemented by extensive 2-D(r, z) modeling of the plasma chemistry, plasma parameters (electron energy distributions and reaction coefficients, spatial distributions of electron and ions concentrations, gas temperature), absorbed power transformations and global power balance.
- Добавил в систему: Манкелевич Юрий Александрович