Исследование влияния эффектов близости при формировании рельефных дифракционных оптических элементов в слоях электронных резистовдипломная работа (Специалист)
Аннотация:Экспериментально определена зависимость растворимости позитивного резиста ЭРП-40 от дозы облучения электронами с энергией 20 кэВ
Создана компьютерная модель рассеяния электронов в толще резиста для расчета поглощенной слоями резиста дозы при различных алгоритмах экспозиции и последующей симуляции процесса травления
Полученные результаты использованы для создания дифракционных оптических элементов с асимметричным профилем штриха с высокой дифракционной эффективностью