Properties of High Nitrogen Content Carbon Nitride Thin Films Prepared by a Radio Frequency Magnetron Sputtering Deposition Technique - дипломная работа | ИСТИНА – Интеллектуальная Система Тематического Исследования НАукометрических данных

Properties of High Nitrogen Content Carbon Nitride Thin Films Prepared by a Radio Frequency Magnetron Sputtering Deposition Techniqueдипломная работа (Магистр)

Научный руководитель: Semenikhin O.A.
Автор: D. Pipher
Тип: Магистр
Организация, в которой проходила защита: The University of Western Ontario
Год защиты: 2016
Аннотация: The properties of carbon nitride (CNx) films deposited onto various substrates using a radiofrequency magnetron sputtering technique were studied as a function of deposition parameters, especially magnetron power, gas pressure and nitrogen content in the plasma.
Добавил в систему: Семенихин Олег Александрович

	ИСТИНА	Войти в систему Регистрация
	ИСТИНА ИНХС РАН
	Главная Поиск Статистика О проекте Помощь

ИСТИНА

ИСТИНА ИНХС РАН

Properties of High Nitrogen Content Carbon Nitride Thin Films Prepared by a Radio Frequency Magnetron Sputtering Deposition Techniqueдипломная работа (Магистр)