Аннотация:Фториды щелочноземельных элементов обладают уникальными физико-химическими свойствами, благодаря которым используются в оптике для изготовления оптоволоконных кабелей, антиотражающих покрытий, лазеров. В настоящее время фториды ЩЗЭ получают и используют в виде керамики, нанопорошков и тонких пленок. В синтезе этих материалов особое место занимают химические методы, основанные на образовании фторидов ЩЗЭ при разложении металлорганических прекурсоров (исходных соединений). Металлорганические прекурсоры представляют собой координационные соединения ЩЗЭ с органическими фторсодержащими лигандами. Наличие фтора в этих соединениях обеспечивает преимущественное образование фторида ЩЗЭ по отношению к оксидам и карбонатам в условиях их термодинамической устойчивости (низкие температуры) и исключает использование таких фторирующих агентов как F2 и HF, обычно применяемых в синтезе фторидных материалов.
Тонкие пленки фторидов ЩЗЭ можно получить методом химического осаждения из растворов. Суть этого метода состоит в получении металлорганического прекурсора — раствора комплекса фторпроизводного металлорганического соединения с нейтральным донорным лигандом (например моноэтаноламином) — с последующим нанесением на подложку и отжигом, сначала при низкой температуре(130-135°С) до образования геля, затем при высокой(до 1000°С) до термического разложения геля с образованием фторида металла. Известно, что нейтральные донорные лигандны повышают растворимость фторпроизводных металлорганических соединений в органических растворителях и предотвращают их кристаллизацию при невысоких температурах. В качестве подложки используется монокристаллический кремний, так как параметры решетки кремния совпадают с параметрами фторидов ЩЗЭ, что способствует росту кристаллов.
Целью работы является отработка методики нанесения тонких пленок фторидов ЩЗЭ на примере кальция методом Химического осаждения из растворов координационных соединений. Для достижения цели в работе проведен синтез прекурсоров, изучение их термического поведения и применение для осаждения тонких пленок.