ИСТИНА

Диссертационная работа посвящена исследованию механизмов деградации и травления нанопористых диэлектриков с низкой диэлектрической константой (так называемые low-kдиэлектрики) в высокочастотной (ВЧ) плазме, которые используются в современной микроэлектронике в качестве межслойных диэлектриков. Деградация данных диэлектриков в процессе травления является серьезным препятствием для перехода микроэлектроники к технологии 10 нм и менее. Рассмотрены методы уменьшения деградации данных диэлектриков. Предложен комплексный подход к изучению механизмов деградации и защиты нанопористых диэлектриков, который заключается в экспериментально-теоретическом исследовании как самой плазмы для травления диэлектриков, так и взаимодействия плазмы с диэлектриками. Экспериментальные исследования проводились и в условиях лабораторных установок, где доступно множество плазменных диагностик, и в условиях реальных технологических реакторов и чистых комнат, что отличает работу от имеющейся по данной теме научной литературы, так как данный подход позволил рассмотреть процессы взаимодействия плазмы с диэлектриками на уровне элементарных реакций, сохраняя при этом связь исследований с технологией.