Выберите категорию обращения:
Общие вопросы
Отчеты
Рейтинги
Мониторинговый отчёт
Диссертационные советы
Конкурсы
Ввод данных
Структура организаций
Аспирантура
Научное оборудование
Импорт педагогической нагрузки
Журналы и импакт-факторы
Тема обращения:
Описание проблемы:
Введите почтовый адрес:
ИСТИНА
Войти в систему
Регистрация
ИСТИНА ИНХС РАН
Главная
Поиск
Статистика
О проекте
Помощь
Journal of Micro/ Nanolithography, MEMS, and MOEMS
журнал
Индексирование: Scopus (1 января 1970 г.-), JCR (1 января 1970 г.-), Белый список (20 октября 2022 г.-)
Период активности журнала: не указан
Другие названия журнала:
Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS
Издательство:
SPIE, the International Society for Optical Engineering
Местоположение издательства:
Bellingham, WA, United States
ISSN:
1932-5150 (Print)
Статьи, опубликованные в журнале
2017
Reducing thermal mismatch stress in anodically bonded silicon–glass wafers: theoretical estimation
Sinev Leonid S.
,
Ryabov Vladimir T.
в журнале
Journal of Micro/ Nanolithography, MEMS, and MOEMS
, издательство
SPIE, the International Society for Optical Engineering
(Bellingham, WA, United States)
, том 16, № 1, с. 015003
DOI