ИСТИНА

Импульсная плазма низкого давления (1 - 100Па), низкой плотности (107-109 см-3) часто встречается в лабораторных и практических условиях. Одной из практических задач, в которых встречается такая плазма, является плазма, образующаяся над поверхностью многослойной оптики в ЭУФ литографии. Сложностью изучения такой плазмы является короткие времена жизни (от единиц микросекунд до десятков микросекунд), низкая концентрация плазмы и ее существенная нелокальность и нестационарность. Это требует как наличия достаточно чувствительных и с хорошим пространственным разрешением плазменных диагностик, так и сложной численной модели, способной описать такую существенно нелокальную и нестационарную плазму и правильно интерпретировать результаты экспериментальных диагностик. В такой плазме существуют два канала ионизации газа: ионизация непосредственно ЭУФ фотонами и быстрыми электронами, образованными после фотоионизации, и ионизация за счет вторичных процессов с участием электронов, выбитых с поверхности оптики. В данном проекте планируется изучение временной и пространственной динамики плазмы, индуцированной импульсом ультрафиолетового (УФ) и экстремального ультрафиолетового (ЭУФ) излучения. Изучение отдельно УФ-индуцированной плазмы и ЭУФ индуцированной плазмы позволяет выявить роль фотоионизации и быстрых фотоэлектронов в образовании и эволюции ЭУФ-индуцированной плазмы, так как в УФ-индуцированной плазме данных процессов нет из-за недостаточной для фотоионизации энергии фотона.