|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИСТИНА ИНХС РАН |
||
Исследование процесса химического осаждения тонкопленочных материалов на основе диоксида ванадияНИР
Study of the chemical deposition of thin-film materials based on vanadium dioxide
- Руководители НИР: Маркелова М.Н., Шароваров Д.И.
- Ответственный исполнитель: Харченко А.В.
- Подразделение: НИЛ химии координационных соединений
- Срок исполнения: 1 ноября 2019 г. - 15 декабря 2019 г.
- Номер договора (контракта, соглашения): 151/19
- Номер ЦИТИС: АААА-А19-119121890112-4
- Тип: Прикладная
- Приоритетное направление научных исследований: Функциональные материалы, наноматериалы и технологии
- Приоритеты и перспективы НТР Российской Федерации согласно Стратегии НТР РФ: переход к передовым цифровым, интеллектуальным технологиям
- ПН России: Индустрия наносистем
- Направление технологического прорыва России: Энергоэффективность и энергосбережение
- Критическая технология России: Технологии получения и обработки функциональных наноматериалов
-
Рубрики ГРНТИ:
- 31.17.15 Неорганическая химия
- 31.17.29 Комплексные соединения
-
Ключевые слова:
планетарный реактор, диоксид ванадия, тонкие пленки, химическое газофазное осаждение
chemical vapor deposition, thin films, planetary reactor, vanadium dioxide - Добавил в систему: Шароваров Дмитрий Игоревич
Соисполнители НИР
| ООО "Оксифилм" | Соисполнитель |
Источник финансирования НИР
| Хоздоговор, . |
Этапы НИР
| # | Сроки | Название |
| 1 | 1 ноября 2019 г.-15 декабря 2019 г. | Исследование процесса химического осаждения тонкопленочных материалов на основе диоксида ванадия |
| Результаты этапа: | ||
Прикрепленные к НИР результаты
Для прикрепления результата сначала выберете тип результата (статьи, книги, ...). После чего введите несколько символов в поле поиска прикрепляемого результата, затем выберете один из предложенных и нажмите кнопку "Добавить".