|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИСТИНА ИНХС РАН |
||
Математическое моделирование распределения параметров плазмы, оптимизация конструкции и разработка системы оптического контроля плазмы разряда экспериментального и опытного образца реактора для проведения технологических процессов плазмохимического травления (ПХТ) высокоаспектных диэлектрических структур на пластинах диаметром до 300 мм в микроэлектронном производстве уровня 65 нмНИР
Plasma parameters modelling, design optimization and plasma optical diagnostics system for experimental reactor to perform technological processes of plasma chemical etching of highly anisotropic dielectric structures on wafers up to 300 mm by diameter for 65 nm technology node
- Руководитель НИР: Рахимов А.Т.
- Ответственные исполнители: Волошин Д.Г., Зотович А.И., Зырянов С.М., Ковалев А.С., Кропоткин А.Н., Прошина О.В., Рахимова Т.В.
- Участники НИР: Богданова М.А., Зиганшин И.И., Кожин В.А., Лопаев Д.В., Манкелевич Ю.А., Минаков П.В., Палов А.П., Поройков А.Ю., Скурихин А.В., Чукаловский А.А., Шибанов Д.Р.
- Подразделение: Лаборатория физики плазмы и физических основ микро-технологии
- Срок исполнения: 22 апреля 2022 г. - 30 сентября 2023 г.
- Номер договора (контракта, соглашения): 17705596339210002380/165/Н-21/22-ЗК-041
- Номер ЦИТИС: 122081700090-2
- Тип: Прикладная
- Приоритетное направление научных исследований: Исследование наноструктур: физика, технологии, применение
- Приоритеты и перспективы НТР Российской Федерации согласно Стратегии НТР РФ: переход к передовым цифровым, интеллектуальным технологиям
- ПН России: Индустрия наносистем
- Критическая технология России: Технологии получения и обработки конструкционных наноматериалов
-
Рубрики ГРНТИ:
- 29.27.47 Численные методы в физике плазмы
- 29.27.49 Диагностика плазмы
- 29.27.51 Применение плазмы
-
Ключевые слова:
оптическая диагностика, математическое моделирование, взаимодействие плазмы с по-верхностью, плазмохимическое травление
-
Описание:
разработка конструктивных решений составных элементов и системы оптического контроля плазмы разряда экспериментального и опытного образца реактора, оказывающих ключевое влияние на однородность ПХТ высокоаспектных диэлектрических структур на пластинах диаметром до 300 мм в микроэлектронном производстве уровня 65 нм.
-
Научный задел:
У научного коллектива имеется большой задел по экспериментальному и теоретическому исследованию газовых разрядов (высокочастотных, в том числе импульсных, постоянного тока, несамостоятельных), диагностике плазмы и изучению взаимодействия плазмы с поверхностью. Участниками коллектива были изучены неравновесные процессы, протекающие в стационарных и нестацио-нарных разрядах постоянного тока, ВЧ и микроволновых разрядов в различных газовых смесях, а также струк-туры этих разрядов.
- Добавил в систему: Поройков Александр Юрьевич
Источник финансирования НИР
| Хоздоговор, . |
Этапы НИР
| # | Сроки | Название |
| 1 | 22 апреля 2022 г.-30 августа 2022 г. | Математическое моделирование распределения параметров плазмы, оптимизация конструкции и разработка системы оптического контроля плазмы разряда экспериментального и опытного образца реактора для проведения технологических процессов плазмохимического травления (ПХТ) высокоаспектных диэлектрических структур на пластинах диаметром до 300 мм в микроэлектронном производстве уровня 65 нм |
| Результаты этапа: | ||
| 2 | 1 декабря 2022 г.-30 сентября 2024 г. | Математическое моделирование распределения параметров плазмы, оптимизация конструкции и разработка системы оптического контроля плазмы разряда экспериментального и опытного образца реактора для проведения технологических процессов плазмохимического травления (ПХТ) высокоаспектных диэлектрических структур на пластинах диаметром до 300 мм в микроэлектронном производстве уровня 65 нм |
| Результаты этапа: | ||
Прикрепленные к НИР результаты
Для прикрепления результата сначала выберете тип результата (статьи, книги, ...). После чего введите несколько символов в поле поиска прикрепляемого результата, затем выберете один из предложенных и нажмите кнопку "Добавить".