Разработка многотигельной установки для выращивания монокристаллов GaAs и Ge диаметром 100 и 150 мм методом VGFНИР

Development of a multi-crucible installation for growing GaAs and Ge single crystals with a diameter of 100 and 150 mm using the VGF method

Источник финансирования НИР

госбюджет, раздел 0110 (для тем по госзаданию)

Этапы НИР

# Сроки Название
1 31 августа 2022 г.-31 октября 2023 г. Разработка многотигельной установки для выращивания монокристаллов GaAs и Ge диаметром 100 и 150 мм методом VGF
Результаты этапа:

Прикрепленные к НИР результаты

Для прикрепления результата сначала выберете тип результата (статьи, книги, ...). После чего введите несколько символов в поле поиска прикрепляемого результата, затем выберете один из предложенных и нажмите кнопку "Добавить".