Создание методом фото-CVD технологии и исследование оптоэлектрических характеристик высокоэффективных тонкопленочных фотопреобразователей солнечной энергии на основе гидрированного нанокристаллического кремния (nc-Si:H)НИР

Источник финансирования НИР

грант РФФИ

Этапы НИР

# Сроки Название
1 1 января 2007 г.-31 декабря 2009 г. Создание методом фото-CVD технологии и исследование оптоэлектрических характеристик высокоэффективных тонкопленочных фотопреобразователей солнечной энергии на основе гидрированного нанокристаллического кремния (nc-Si:H)
Результаты этапа:

Прикрепленные к НИР результаты

Для прикрепления результата сначала выберете тип результата (статьи, книги, ...). После чего введите несколько символов в поле поиска прикрепляемого результата, затем выберете один из предложенных и нажмите кнопку "Добавить".