Сканирующая зондовая спектроскопия неравновесных и релаксационных процессов в наноструктурах и низкоразмерных системах с локализованными состояниямиНИР

Источник финансирования НИР

грант РФФИ

Этапы НИР

# Сроки Название
1 1 ноября 2012 г.-31 декабря 2012 г. Этап 1. Сканирующая зондовая спектроскопия неравновесных и релаксационных процессов в наноструктурах и низкоразмерных системах с локализованными состояниями
Результаты этапа:
2 1 января 2013 г.-31 декабря 2013 г. Этап 2. Сканирующая зондовая спектроскопия неравновесных и релаксационных процессов в наноструктурах и низкоразмерных системах с локализованными состояниями
Результаты этапа:
3 1 января 2014 г.-31 декабря 2014 г. Этап 3. Сканирующая зондовая спектроскопия неравновесных и релаксационных процессов в наноструктурах и низкоразмерных системах с локализованными состояниями
Результаты этапа: Методами численного моделирования проведены исследования электронных свойств полупроводника Ge(111)-(2?1) вблизи примесного атома фосфора, расположенного в приповерхностном слое. Было обнаружено значительное увеличение поверхностной локальной плотности электронных состояний около атома примеси вблизи дна зоны проводимости. Показано, что несмотря на хорошо установленный факт, что энергетический уровень объемной примеси в виде донорного примесного атома лежит у дна зоны проводимости, поверхностный донорный атом в структуре Ge(111)-(2?1) может давать энергетическое состояние ниже уровня Ферми, и его точное местоположение будет зависеть от локального окружения примесного атома. Методами компьютерной симуляции “из первых принципов” подтвержден квази-одномерный характер примесного атома, наблюдаемого на СТМ-изображениях. Методом сканирующей туннельной микроскопии/спектроскопии была изучена адсорбция атомов серебра на поверхности кремния Si(110). Были обнаружены две различные структуры в зависимости от степени покрытия повехности Si(110) атомами серебра и температуры последующего отжига. Реконструкция поверхности Ag-Si(110)-1?4 появляется при степени покрытия, равном 0.42 монослоя и температуре последующего отжига 490-550 град. С, а структура (4, 6)x(-3, 1) при покрытии 0.21 монослоя и температуре отжига 630 град. С. Методом сканирующей туннельной микроскопии/спектроскопии при низких температурах проведено исследование зарядовых эффектов на поверхности GaAs(110). Вблизи комплекса примесный атом-адатом в экспериментах наблюдалась отрицательная дифференциальная туннельная проводимость. При этом сам комплекс на СТМ-изображении был окружен зарядовым гало. Была предложена теоретическая модель, принимающая во внимание электронное взаимодействие между атомомом примеси и адатомом. Экспериментально обнаружены чрезвычайно сильные оптическая активность и круговой дихроизм субволновых массивов четырехзаходных спиральных отверстий в свободно подвешенных пленках серебра толщиной около 300-400 нм. Образцы изготавливались путем однопроходного травления сфокусированным ионным пучком. При наличии у сечений отверстий симметрии четвертого порядка, угол поворота плоскости поляризации света для структур достигал 90 градусов, а величина кругового дихроизма – величины, близкой к 1. На основе экспериментальных результатов и общих принципов симметрии, взаимности и обратимости сделано заключение, что оптическая хиральность изготовленных структур определяется возбуждением хиральных локализованных плазмонных резонансов.

Прикрепленные к НИР результаты

Для прикрепления результата сначала выберете тип результата (статьи, книги, ...). После чего введите несколько символов в поле поиска прикрепляемого результата, затем выберете один из предложенных и нажмите кнопку "Добавить".