|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИСТИНА ИНХС РАН |
||
Влияние внешних условий на радиальное распределение параметров плазмы Ar и смеси Ar/O2 в ВЧ идуктивном источнике плазмытезисы доклада
- Авторы: Александров А.Ф., Вавилин К.В., Козлов Г.П., Кралькина Е.А., Неклюдова П.А., Павлов В.Б.
- Сборник: XLII Международная (Звенигородская) конференция по физике плазмы и УТС, 9 – 13 февраля 2015 г
- Тезисы
- Год издания: 2015
- Место издания: ПЛАЗМАИОФАН г. Москва
- Первая страница: 360
- Последняя страница: 360
- Аннотация: Известно, что индуктивный ВЧ разряд широко используется в полупроводниковой промышленности при производстве микросхем, в качестве активной среды космических электрореактивных двигателей, источников света, в процессах поверхностной модификации материалов, напыления и осаждения покрытий. Быстрое развитие технологий микро- и наноэлектроники требуют создания гибко управляемых плазменных рабочих процессов, позволяющих получать протяженные участки равномерной плотной плазмы. Одним из наиболее значимых, c точки зрения технологических применений, параметров является пространственное распределение ионного тока насыщения i+. Настоящая работа является продолжением систематических исследований характеристик плазмы при изменении внешних параметров разряда: давления рабочего газа, рабочей частоты и мощности ВЧ генератора, величины и конфигурации магнитного поля, формы индуктора, а также рода газа и их смесей.
- Добавил в систему: Неклюдова Полина Алексеевна