|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИСТИНА ИНХС РАН |
||
ОСАЖДЕНИЕ И ПРЕВРАЩЕНИЯ УГЛЕВОДОРОДНЫХ РАДИКАЛОВ ПРИ ДВИЖЕНИИ ВОДОРОД/УГЛЕВОДОРОДНОЙ СМЕСИ ВДОЛЬ ПОВЕРХНОСТИстатья
Статья опубликована в журнале из списка RSCI Web of Science
- Авторы: Городецкий А.Е., Залавутдинов Р.Х., Буховец В.Л., Варшавская И.Г., Захаров А.П.
- Журнал: Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования
- Номер: 9
- Год издания: 2007
- Издательство: ФГБУ "Издательство "Наука"
- Местоположение издательства: Москва
- Первая страница: 107
- Последняя страница: 112
- Аннотация: Рассмотрены процессы осаждения и химических превращений углеводородных радикалов в движущейся водород/углеводородной смеси {СxНy/Н2 (x = 12, y = 26)} при средних числах Кнудсена (Кn 0.1). Источником углеводородных радикалов являлся разряд постоянного тока в смеси метан/водород в отношении 1:5 на входе в кварцевую трубу при давлении 820 Па и температуре 300 К. Радикалы переносились ламинарным газовым потоком в область послесвечения, в которой размещалась полая вольфрамовая вставка. При движении сквозь вставку радикалы осаждались на стенках, кремниевых и вольфрамовых образцах, формируя аморфные углеводородные а-С:Н пленки, вероятнее всего из винила и метила. При повышении температуры вольфрамовой вставки до 380 К осаждение углерода на поверхности материалов полностью подавлялось. В течение нескольких часов экспозиции поверхности образцов оставались неизменными, в некотором стационарном состоянии. Стабилизированная поверхность вольфрама при температурах 380480 К содержала только несколько атомных слоев внедренного в металл углерода (карбидизированная поверхность). На карбидизированной поверхности большая часть радикалов, ранее (при 300340 К) расходовавшаяся на формирование а-С:Н пленки, превращалась в химически неактивные углеводородные молекулы: метан (СН4), этан (С2Н6), ацетилен (С2Н2). Кроме процесса образования молекул, около 0.010.1 доли первичных радикалов превращалась в новые радикалы, способные к конденсации при температурах ниже 350 К.
- Добавил в систему: Буховец Валентин Леонидович