ОСАЖДЕНИЕ И ПРЕВРАЩЕНИЯ СН3-РАДИКАЛОВ НА ПОВЕРХНОСТИ ВОЛЬФРАМА ПРИ ТЕМПЕРАТУРЕ 300-420 Кстатья
Статья опубликована в журнале из списка RSCI Web of Science
Статья опубликована в журнале из перечня ВАК
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 22 февраля 2019 г.
Аннотация:Для изучения процессов переноса и осаждения СН3-радикалов в потоке СхНу
/Н2/Н (х = 1—3, у = 1—6)
была использована «струевая» методика движения газовой смеси по трубе. Источником метила и
атомов водорода являлся высокочастотный (ВЧ) индукционный разряд в метане или смесях
метан/водород на входе в трубу при давлении 30—100 Па и температуре 300 К.
Метил переносился газовым потоком, проходил сквозь вольфрамовые вставки и осаждался на стенке
трубы, кремниевых и вольфрамовых образцах, формируя полимероподобные а-С:Н-пленки. Показано,
что при повышении температуры вольфрамовой вставки до 420 К (150 ºС) скорость осаждения
углерода существенно понижалась за счет увеличения вероятности рекомбинации углеводородных
радикалов. Однако в газовой фазе накапливались вторичные углеводородные частицы,
конденсирующиеся при температуре вольфрамовой поверхности ниже 340 К (70 ºС).
DEPOSITION AND TRANSFORMATIONS OF CH3 RADICALS ON TUNGSTEN SURFACE AT
TEMPERATURES 300—420 K. A.E. GORODETSKY, R.Kh. ZALAVUTDINOV, S.P. VNUKOV, V.L.
BUKHOVETS, I.I. ARKHIPOV, A.P. ZAKHAROV, I.V. MAZUL, A.N. MAKHANKOV. To study the
processes of transport and deposition of CH3 radicals in CxHy
/H2/H (x = 1—3, y = 1—6) flow the stream
technique of gas mixture flowing along a tube has been used. RF inductive discharge in methane and
methane/hydrogen mixture at tube inlet at pressures 30—100 Pa and temperature 300 K was a source of methyl
and hydrogen atoms.