Выберите категорию обращения:
Общие вопросы
Отчеты
Рейтинги
Мониторинговый отчёт
Диссертационные советы
Конкурсы
Ввод данных
Структура организаций
Аспирантура
Научное оборудование
Импорт педагогической нагрузки
Журналы и импакт-факторы
Тема обращения:
Описание проблемы:
Введите почтовый адрес:
ИСТИНА
Войти в систему
Регистрация
ИСТИНА ИНХС РАН
Главная
Поиск
Статистика
О проекте
Помощь
The Non Global-Warming Gas, Trifluoroiodomethane, for Plasma Etching of Dielectric Films
статья
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 29 мая 2015 г.
Авторы:
Levy R.A.
,
Zaitsev V.B.
,
Aryusook K.
,
Misra A.
,
Kesari S.
Сборник:
Proceedings of the International Conference Ecology of Cities
Год издания:
1998
Место издания:
Rhodes, Greece
Первая страница:
109
Последняя страница:
113
Добавил в систему:
Зайцев Владимир Борисович