|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИСТИНА ИНХС РАН |
||
Atomic Layer Deposition of Thin Films onto 3D Nanostructures: The Effect of Wall Tilt Angle and Aspect Ratio of Trenchesстатья
Информация о цитировании статьи получена из
Web of Science,
Scopus
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 26 декабря 2018 г.
- Авторы: Fadeev A.V., Rudenko K.V.
- Журнал: Technical Physics
- Том: 63
- Номер: 10
- Год издания: 2018
- Издательство: Maik Nauka/Interperiodica Publishing
- Местоположение издательства: Russian Federation
- Первая страница: 1525
- Последняя страница: 1532
- DOI: 10.1134/s1063784218100092
- Добавил в систему: Карташов Игорь Николаевич