Аннотация:Исследованы субструктура и твердость пленок Pd-Cu, сформированных на поверхности SiO2 методом магнетронного распыления. В интервале температур 300-800 К формируются пленки, характеризующиеся градиентной структурой. У подложки слой высокодисперсных кристаллитов, в процессе роста пленки размер кристаллитов увеличивается в результате селективного роста зерен в направлениях <111> и <211>. Наиболее существенное укрупнение зерен происходит на начальном этапе (~1 мкм от подложки) роста пленки. Изменение значений твердости и модуля Юнга для нижних и верхних слоев объясняется градиентной структурой пленок. Температурная зависимость дисперсности пленок объясняет снижение твердости и увеличение пластичности пленок Pd-Cu с ростом их толщины. Процесс упорядочения твердого раствора Pd-Cu способствует увеличению модуля Юнга.