Dependence of dielectric constant of hydrocarbon bridged low-k films on porosity

Palov, A.P.; Baklanov, M.R.; Shuhua, W.

Информация о цитировании статьи получена из Web of Science, Scopus
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 7 марта 2019 г.

Авторы: Palov Alexander P., Baklanov Mikhail R., Shuhua Wei
Журнал: Journal of Vacuum Science and Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures
Том: 37
Год издания: 2019
Издательство: AIP Publishing
Местоположение издательства: United States
Первая страница: 010601-1
Последняя страница: 010601-4
DOI: 10.1116/1.5082781
Аннотация: Numerical and analytical approaches developed for calculation of dielectric constants of porous organosilicate glasses (OSG) were applied to porous hydrocarbon bridged OSG films. All calculations were based on modified Clausius-Mossotti equation and used for films with wide ranges of porosity (0.2 - 0.4). The dielectric constants were calculated in assumption of preferential localization of CH3 groups on pore walls as for OSG films and uniform distribution of ethylene and phenylene groups in silicon dioxide matrix. The authors expect the predicted values of dielectric constants to be of help for plasma processing industry.
Добавил в систему: Палов Александр Петрович

	ИСТИНА	Войти в систему Регистрация
	ИСТИНА ИНХС РАН
	Главная Поиск Статистика О проекте Помощь

ИСТИНА

ИСТИНА ИНХС РАН

Dependence of dielectric constant of hydrocarbon bridged low-k films on porosityстатья

Прикрепленные файлы