|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИСТИНА ИНХС РАН |
||
Formation of microstructures on silicon surface in a fluorinated plasma via the cyclic etching-passivation processстатья
Информация о цитировании статьи получена из
Web of Science,
Scopus
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 16 февраля 2016 г.
- Авторы: Amirov I.I., Alov N.V.
- Журнал: High Energy Chemistry
- Том: 42
- Номер: 2
- Год издания: 2008
- Издательство: Pleiades Publishing, Ltd
- Местоположение издательства: Road Town, United Kingdom
- Первая страница: 132
- Последняя страница: 136
- DOI: 10.1007/s10733-008-2013-9
- Добавил в систему: Алов Николай Викторович