Графитизация поверхности алмаза при высокодозной ионной бомбардировкестатья

Статья опубликована в журнале из списка RSCI Web of Science
Статья опубликована в журнале из перечня ВАК
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 3 мая 2017 г.

Работа с статьей


[1] Графитизация поверхности алмаза при высокодозной ионной бомбардировке / Н. Н. Андрианова, А. М. Борисов, В. А. КАЗАКОВ и др. // Известия Российской академии наук. Серия физическая. — 2016. — Т. 80, № 2. — С. 175–180. Приведены результаты структурно-морфологических исследований, измерений слоевого электросопротивления и оценки удельного сопротивления м графитоподобного проводящего поверхностного слоя, образующегося при высокодозном облучении грани (111) синтетического алмаза ионами Ar+ энергии 30 кэВ и температуре мишени 400oC. Найдено, что ориентирующее действие решетки алмаза проявляется в подавлении образования графитовых кристаллитов с осью с, перпендикулярной поверхности. Толщина модифицированного слоя составляет 40–50 нм, его слоевое сопротивление 0.5 кОм/квадрат. Удельное электросопротивление м = 20–25 мкОм · м модифицированного слоя приходится на диапазон значений графитовых и стеклоуглеродных материалов. [ DOI ]

Публикация в формате сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл сохранить в файл скрыть