|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИСТИНА ИНХС РАН |
||
Influence of systematic errors in spectral photometric measurements on the determination of optical thin film parametersтезисы доклада
- Авторы: Tikhonravov A.V., Trubetskov M.K., Kokarev M.A., Amotchkina T.V.
- Сборник: Optical Interference Coatings, OSA Technical Digest (Optical Society of America)
- Тезисы
- Год издания: 2001
- Место издания: Washington DC
- Первая страница: TuD2-1
- Последняя страница: TuD2-3
- Аннотация: Results of the optical characterization of dielectric thin films depend on the quality of experimental data. This work investigates the iinfluence of systematic errors in measurement data on the determination of thin film parameters.
- Добавил в систему: Тихонравов Александр Владимирович