|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИСТИНА ИНХС РАН |
||
Pore sealing in low-k dielectrics by low-energy ionsтезисы доклада
- Авторы: Voronina E.N., Lopaev D.V., Mankelevich Yu A., Rakhimova T.V., Sycheva A.A.
- Сборник: Plasma Etch and Strip in Microthechnology (PESM 2019). Book of abstracts. May 20–21, 2019, Grenoble, France
- Тезисы
- Год издания: 2019
- Место издания: MINATEC Grenoble, France
- Первая страница: 52
- Последняя страница: 53
- Добавил в систему: Воронина Екатерина Николаевна