|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИСТИНА ИНХС РАН |
||
Plasma Cleaning of Multilayer Mirrors in EUV Lithography from Amorphous Carbon Contaminationsстатья
Информация о цитировании статьи получена из
Web of Science,
Scopus
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 18 июля 2013 г.
- Авторы: Malykhin E.M., Lopaev D.V., Rakhimov A.T., Rakhimova T.V., Braginskii O.V., Kovalev A.S., Vasil’eva A.N., Zyryanov S.M.
- Журнал: Moscow University Physics Bulletin
- Том: 66
- Номер: 2
- Год издания: 2011
- Издательство: Allerton Press
- Местоположение издательства: New York, N.Y., United States
- Первая страница: 184
- Последняя страница: 189
- DOI: 10.3103/S0027134911020111
- Добавил в систему: Лопаев Дмитрий Викторович