|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИСТИНА ИНХС РАН |
||
Physical Processes and Plasma Parameters in a Radio-Frequency Hybrid Plasma System for Thin-Film Production with Ion Assistanceстатья
- Авторы: Kralkina E., Alexandrov A.F., Nekludova P., Nikonov A., Pavlov V.B., Vavilin K., Odinokov V., Sologub V.
- Сборник: Micromachining
- Глава в коллективной монографии
- Год издания: 2019
- Место издания: Intech Open London
- Первая страница: 1
- Последняя страница: 18
- DOI: 10.5772/intechopen.82870
- Добавил в систему: Зефирова Виктория Львовна