Силикат-германат Cs2In2[(Si2.1Ge0.9)2O15](OH)2.2H2O с новым гофрированным тетраэдрическим слоем: тополого-симметрийное предсказание анионных радикаловстатья
Статья опубликована в журнале из списка RSCI Web of Science
Статья опубликована в журнале из перечня ВАК
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 25 ноября 2020 г.
Аннотация:Получены кристаллы и исследована структура нового индиевого силикаты с гофрированным слоем. Проведено сравнение с классическими слоями. Описано тополого-симметрийное конструирование цепочек, лент, слоев и предсказаны новые слои.