Area-selective Ru ALD by amorphous carbon modification using H plasma: from atomistic modeling to full wafer process integrationстатья
Информация о цитировании статьи получена из
Web of Science,
Scopus
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 12 января 2022 г.