|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИСТИНА ИНХС РАН |
||
Study of the Plasma Resistance of a High Resolution e-Beam Resist HSQ for Prototyping Nanoelectronic Devicesстатья
Информация о цитировании статьи получена из
Scopus
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 8 апреля 2022 г.
- Авторы: Miakonkikh A.V., Shishlyannikov A.V., Tatarintsev A.A., Kuzmenko V.O., Rudenko K.V., Gornev E.S.
- Журнал: Russian Microelectronics
- Том: 50
- Номер: 5
- Год издания: 2021
- Издательство: Maik Nauka/Interperiodica Publishing
- Местоположение издательства: Russian Federation
- Первая страница: 297
- Последняя страница: 302
- DOI: 10.1134/S1063739721050048
- Добавил в систему: Татаринцев Андрей Андреевич