|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИСТИНА ИНХС РАН |
||
Plasma enhanced atomic layer deposition of ruthenium films using ru(Etcp)2 precursorстатья
Информация о цитировании статьи получена из
Scopus
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 15 декабря 2021 г.
- Авторы: Rogozhin A., Miakonkikh A., Smirnova E., Lomov A., Simakin S., Rudenko K.
- Журнал: Coatings
- Том: 11
- Номер: 2
- Год издания: 2021
- Издательство: MDPI
- Местоположение издательства: Basel, Switzerland
- Первая страница: 1
- Последняя страница: 11
- DOI: 10.3390/coatings11020117
- Добавил в систему: Мяконьких Андрей Валерьевич