Выберите категорию обращения:
Общие вопросы
Отчеты
Рейтинги
Мониторинговый отчёт
Диссертационные советы
Конкурсы
Ввод данных
Структура организаций
Аспирантура
Научное оборудование
Импорт педагогической нагрузки
Журналы и импакт-факторы
Тема обращения:
Описание проблемы:
Введите почтовый адрес:
ИСТИНА
Войти в систему
Регистрация
ИСТИНА ИНХС РАН
Главная
Поиск
Статистика
О проекте
Помощь
Importance of wafer flatness for CMP and lithography
статья
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 11 мая 2017 г.
Авторы:
Golubtsov P.V.
,
Zhang Y.
,
Wagner L.
Сборник:
SPIE 22nd Annual International Symposium on Microlithography
Том:
3050
Год издания:
1997
Место издания:
Santa Clara, CA
Первая страница:
266
Последняя страница:
269
Добавил в систему:
Голубцов Петр Викторович