Выберите категорию обращения:
Общие вопросы
Отчеты
Рейтинги
Мониторинговый отчёт
Диссертационные советы
Конкурсы
Ввод данных
Структура организаций
Аспирантура
Научное оборудование
Импорт педагогической нагрузки
Журналы и импакт-факторы
Тема обращения:
Описание проблемы:
Введите почтовый адрес:
ИСТИНА
Войти в систему
Регистрация
ИСТИНА ИНХС РАН
Главная
Поиск
Статистика
О проекте
Помощь
Mapping wafer flatness changes in Chemical Mechanical Planarization
статья
Информация о цитировании статьи получена из
Web of Science
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 11 мая 2017 г.
Авторы:
Golubtsov P.V.
,
Zhang Y.
,
Yin X.M.
Сборник:
Proceedings of the 7th IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference & Workshop
Год издания:
1996
Место издания:
Cambridge, Massachusetts, USA
Первая страница:
343
Последняя страница:
346
Добавил в систему:
Голубцов Петр Викторович