Specific Features of the Kinetics of the Reactive-Ion Etching of Si and SiO2 in a CF4 + O2 Mixture in a Low Power Supply Modeстатья

Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 8 апреля 2022 г.