Изменение кинетики термической релаксации фотоиндуцированной при Т=425 К метастабильной темновой проводимости пленок a-Si:H слабой подсветкой на начальном этапе релаксациистатья
Статья опубликована в журнале из списка RSCI Web of Science
Статья опубликована в журнале из перечня ВАК
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 24 января 2020 г.
Аннотация: Исследуется влияние слабой подсветки на начальном этапе релаксации метастабильной фотоиндуцированной при Т=425 К темновой проводимости нелегированной пленки a-Si:H на скорость ее последующей термической релаксации. Установлено, что кинетика релаксации после подсветки и без нее описывается растянутыми экспонентами с величинами параметров и меньшими в случае подсветки. Показано, что уменьшение этих параметров увеличивает скорость термической релаксации темновой проводимости пленки. Т.к. температура и интенсивности освещения, при которых проводились исследования, невелики, изменения скорости релаксации метастабильной проводимости вряд ли связаны с существенной структурной перестройкой аморфной сетки. Это может быть обусловлено изменением системы водородных связей, в частности, в результате процессов генерации и релаксации подсветкой медленных фотоиндуцированных дефектов.